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公告

2025/01/26 15:00

1月27日 實施惡魔強度上修的介紹

感謝您遊玩「D×2 真・女神轉生 Liberation」。

在此介紹在惡魔強度上修的內容。

有關「天魔 阿修羅」惡魔強度上修的詳細資訊。[相關公告

調整内容

,實施下列調整。

★5 天魔 阿修羅

三頭六臂之型

修正前

附著物理貫通。
HP最大值提升50%。
隨機攻擊技能對自身造成的傷害減少30%。
敵人發動隨機技能時,持有此技能的惡魔將成為優先承受攻擊的對象。
※關於優先成為技能對象的詳情,請參見「遊戲玩法」內的說明。

修正後

附著物理貫通。
命中率、會心率提升30%。
HP最大值提升60%。
隨機攻擊技能對自身造成的傷害減少30%。
隨機攻擊技能給予的傷害提升60%。
敵人發動隨機技能時,持有此技能的惡魔將成為優先承受攻擊的對象。
※關於「優先成為技能對象」效果的詳情,請參見「遊戲玩法」內的說明。

阿修羅

修正前

對敵方全體進行會心率50%的物理屬性打擊型攻擊,以50威力給予傷害。
攻擊若成功,解除敵方全體的能力強化效果,並發動以下連鎖效果。「對隨機敵人進行10次會心率80%的物理屬性打擊型攻擊,以25威力給予傷害。」
包含連鎖效果,此技能造成的傷害將無視反擊效果。

修正後

對敵方全體進行會心率50%的物理屬性打擊型攻擊,以50威力給予傷害。
攻擊成功時,解除敵方全體的能力強化效果,並發動連鎖效果「對隨機敵人進行10次會心率50%的物理屬性打擊型攻擊,以25威力給予傷害。」
包含連鎖效果,此技能造成的傷害將無視反擊效果。因此技能死亡的敵人無法復活。

思念盤1

修正前

物理命中率提升20%。
會心率提升20%。

修正後

自身存活的狀態下,可使我方全體發揮「物理命中率提升20%、會心率提升20%」效果。
使用「阿修羅」時,MP的消耗量比平時減少1。

思念盤2

修正前

HP最大值提升30%。
受到的隨機攻擊傷害減少30%。

修正後

HP最大值提升30%。
受到的隨機攻擊傷害減少30%。
使用「阿修羅」時,MP的消耗量比平時減少1。

思念盤3

修正前

隨機攻擊給予的傷害提升30%。
使用「阿修羅」時,MP的消耗量比平時減少2。

修正後

自身存活的狀態下,可使我方全體發揮「隨機攻擊給予的傷害提升30%」效果。
使用「阿修羅」時,MP的消耗量比平時減少1。

思念盤4

修正前

命中率提升20%。
「阿修羅」發動後,會發動連鎖效果「解除我方全體的能力弱化效果,對隨機敵人進行10次會心率80%的物理屬性打擊型攻擊,以25威力給予傷害。(1回合內發動1次)。」
此技能造成的傷害將無視反擊效果。

修正後

命中率提升20%。
「阿修羅」發動時,發動連鎖效果「解除我方全體的能力弱化效果,並對隨機敵人進行10次會心率80%的物理屬性打擊型攻擊,以25威力給予傷害(1回合內最多發動2次)。」
此技能造成的傷害將無視反擊效果。因此技能死亡的敵人無法復活。

注意事項

預定的內容有可能因為營運上的突發事由而進行更動。

「D×2 真・女神轉生 Liberation」營運團隊 敬上

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